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化學法除臭設備

化學法除臭設備

化學洗滌除臭設備除臭技術亦稱酸堿凈化技術,是將惡臭氣體通過洗滌塔用酸和堿洗滌進行脫臭。通常,水洗只能去除可溶或部分微溶于水的惡臭物質,如氨等;酸洗可去除氨和胺類等堿性惡臭物質;堿洗則適于去除硫化氫、低級脂肪酸等酸性惡臭物質。

詳細介紹

化學法除臭設備除臭工藝原理
化學洗滌除臭設備除臭技術亦稱酸堿凈化技術,是將惡臭氣體通過洗滌塔用酸和堿洗滌進行脫臭。通常,水洗只能去除可溶或部分微溶于水的惡臭物質,如氨等;酸洗可去除氨和胺類等堿性惡臭物質;堿洗則適于去除硫化氫、低級脂肪酸等酸性惡臭物質。因此,為了徹底去除廢氣中存在的各類不同的惡臭物質,通常可采用酸洗和堿洗相串聯的多級化學洗滌方式脫臭。
 
化學洗滌除臭設備除臭法的基本原理:
利用臭氣成分與化學藥液的主要成份間發生不可逆的化學反應生成新的無臭物質以達到脫臭的目的。詳見如下:
 
H2S+2NaOH+4NaCLO            Na2SO4+4NaCL+2H2O
 
H2S+ NaCLO                          NaCL+H2O+S
 
2NH3+ H2SO4                       (NH4)2SO4
 
污染物去除效率表(僅供參考)

污染物

污染物形式

初始濃度

吸收中和液

去除效率

氯化氫HCL

Gas

≤500mg/m3

NaOH溶液

95~99%

氮氧化物NOx

Gas

≤1000mg/m3

NaOH溶液或特殊藥品

60~75%

硫酸H2SO4

Gas

≤500mg/m3

NaOH溶液

90~98%

硫化氫H2S

Gas

≤500mg/m3

NaOH溶液

90~99%

溴Br2

Gas

≤500mg/m3

NaOH溶液

90~99%

二氧化碳CO2

Gas

≤500mg/m3

NaOH溶液

65~85%

氯CL2

Gas

≤500mg/m3

NaOH溶液

90~99%

甲醛HCHO

Gas或Liquid(3microns以上)

≤1000mg/m3

NaOH溶液

90~99%

硫醇RSH

Gas或Liquid(3microns以上)

≤1000mg/m3

特殊藥品為酸霧溶液

90~99%

二氧化氯CLO2

Gas

≤1000mg/m3

特殊藥品為酸霧溶液

90~99%

醋酸CH3COOH

Gas或Liquid(3microns以上)

≤1000mg/m3

 

95~99%

丙酮CH3COCH3

Gas

≤1000mg/m3

 

95~99%

氫氧化鈉NaOH

Liquid(3microns以上)

≤1000mg/m3

H2SO4溶液

98~99%

乙醇CH3CH2OH

Gas或Liquid(3microns以上)

≤1000mg/m3

 

95~99%

甲酸HCOOH

Gas

≤1000mg/m3

 

90~99%

氫溴酸HBr

Gas或Liquid(3microns以上

≤1000mg/m3

 

90~99%

氫氟酸HF

Gas

≤1000mg/m3

NaOH溶液

95~98%

氰酸HCN

Gas

≤1000mg/m3

 

65~99%

氨氣NH3

Gas

≤1000mg/m3

H2SO4溶液

95~99%


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